超短パルス高出力フラッシュランプ照射による単結晶シリコン加工変質層の完全修復
【研究分野】生産工学・加工学
【研究キーワード】
超精密加工 / 加工変質層 / 単結晶シリコン / フラッシュランプ / レーザ / 加工欠陥
【研究成果の概要】
超短パルス高出力フラッシュランプを単結晶シリコン機械加工面に照射し、加工変質層の修復を試みた.表層アモルファスシリコンの溶融・再結晶の過程を解明するために分子動力学を用いてシミュレーション解析を行い、レーザ照射との比較を行った.また、シリコン研削面および切削面を実験対象として照射実験を行った結果、加工変質層の修復効果が確認された。一方、問題点として、照射時の衝撃波によるウエハ破壊が観察された。
【研究代表者】
【研究種目】挑戦的萌芽研究
【研究期間】2011 - 2012
【配分額】4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)