ＰＯＳＳ含有ブロック共重合体の自己組織化構造解析と方形状超微細ナノパターンの創成
【研究分野】高分子化学
【研究キーワード】
ブロック共重合体 / ナノパターン / 階層構造 / シルセスキオキサン / 微細加工 / 自己組織化 / 方形
【研究成果の概要】
一分子中に数多くのケイ素を含有するかご形シルセスキオキサン（POSS）を含有する新規高分子ブロック共重合体の合成を行い、詳細な高次構造解析を実施することで階層構造を明らかにした。分子間相互作用に基づく分子構造と階層構造の形をデザインし、精密な高分子合成を駆使することによって、ブロック共重合体の階層構造を利用する方形状超微細ナノパターンの創成に向けた研究基盤を確立した。
【研究代表者】
【研究種目】基盤研究(C)
【研究期間】2012-04-01 - 2015-03-31
【配分額】5,590千円 (直接経費: 4,300千円、間接経費: 1,290千円)