熱ナノインプリント対応金属加工用レジスト高分子薄膜の究明
【研究分野】高分子・繊維材料
【研究キーワード】
高分子構造・物性 / 微細加工 / ナノ材料
【研究成果の概要】
金属薄膜と高分子レジスト薄膜との界面を光反応性単分子膜の化学結合形成により密着させることを特徴とする界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィの学理を目的とし、金属薄膜の湿式加工に適する熱可塑性高分子レジスト薄膜の究明を行った。光反応性基と効率よく結合形成する高分子の種類、ウエットエッチングと電解めっきに適した高分子の種類と最適分子量の存在、分子量に依存した高分子薄膜への水溶液の透過現象、高分子薄膜の加熱加圧成型の均一性を確認できる蛍光レジストの有効性を論証した。
【研究代表者】
【研究連携者】 |
| 松井 真二 | 兵庫県立大学 | 高度産業科学技術研究所 | 教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究協力者】 |
| 久保 祥一 | 東北大学 | 多元物質科学研究所 | 助教 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(B)
【研究期間】2008 - 2010
【配分額】18,070千円 (直接経費: 13,900千円、間接経費: 4,170千円)