照射環境下における炭化ケイ素の非晶質化過程と化学的短範囲規則性
【研究分野】金属物性
【研究キーワード】
解析・評価 / アモルファス / 透過電子顕微鏡 / 炭化ケイ素 / 非晶質 / 動径分布解析 / 構造緩和 / スエリング
【研究成果の概要】
照射誘起非晶質炭化ケイ素(SiC)の構造および構造緩和過程を先端的電子顕微鏡技術により調べた。非晶質SiCは第1隣接においてSi-C異種原子対に加え、結晶には存在しないC-C、Si-Si同種原子対を有することが明らかとなった。熱処理に伴い異種原子対は増加するのに対し同種原子対は減少し、構造緩和により化学的短範囲規則性が変化することが確認された。Si-Si原子対はC-C原子対よりも構造緩和により早く消失し、この同種原子対間の消滅速度の違いにより非晶質SiCの体積は大きく変化することが示唆された
【研究代表者】
【研究分担者】 |
| 平田 秋彦 | 大阪大学 | 産業科学研究所 | 助教 | (Kakenデータベース) |
| 内藤 宗幸 | 大阪大学 | 産業科学研究所 | 助教 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(C)
【研究期間】2007 - 2008
【配分額】4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)