水溶液プロセスによる透明導電性ＺｎＯ膜の実現と透明電子回路への挑戦
【研究分野】無機材料・物性
【研究キーワード】
酸化亜鉛 / 溶液プロセス / 透明導電膜 / 紫外線 / 水素還元雰囲気 / 水溶液プロセス / 紫外線照射 / 酸化亜鉛膜 / 透明導電性 / 低環境負荷プロセス / イオンドープ
【研究成果の概要】
亜鉛イオンを含む原料液とpH調整用のアンモニアに加えて酢酸3ナトリウムを入れた反応液を加熱基板上に噴霧して作製する透明酸化亜鉛膜の低抵抗化ならびに紫外線照射条件の最適化による透明電子回路の形成に挑戦した。紫外線処理前に水素雰囲気処理を行うことにより、これまでで最も低い1.8×10-3 Ω・cmの抵抗率の達成に成功した。また、プラスティック基板(PES)上でも透明導電性酸化亜鉛膜を作製した。最適の紫外線波長を調べた上で照射領域を限定し、酸化亜鉛膜中に透明電子回路を描画することに成功した。また、アンミン錯体を用いることにより、一液から透明導電性亜鉛膜を作製可能にするプロセスの確立にも成功した。
【研究代表者】
【研究分担者】 |
| 我田 元 | 明治大学 | 理工学部応用化学科 | 講師 | (Kakenデータベース) |
| 勝又 健一 | 東京理科大学 | 光触媒国際研究センター | 准教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(B)
【研究期間】2012-04-01 - 2016-03-31
【配分額】17,420千円 (直接経費: 13,400千円、間接経費: 4,020千円)