発光抑制する電気化学フォトニック結晶の作製
【研究分野】無機材料・物性
【研究キーワード】
フォトニック結晶 / 電気化学 / リソグラフィー / ３次元 / 酸化チタン / ボトムアップ / ナノ構造 / プラズモン / 光熱変換 / 光圧 / ナノ加工 / 微細構造 / 自己集積 / ナノ構造作製 / 反応性イオンエッチング / 電解液 / 屈折率 / 誘電率 / 太陽電池 / 傾斜エッチング
【研究成果の概要】
光の半導体と呼ばれるフォトニック結晶の光化学反応への応用を念頭に、本研究では、光酸化還元能を持つ酸化チタンによるフルフォトニックバンドギャップ（３次元に完全に光を閉じ込める能力）を有するフォトニック結晶構造の探索を行った。
本研究の成果は大きく３つに分かれる。１）酸化チタン/電解液で構成されるフルフォトニックバンドギャップを持つ構造体を計算上発見し、２）そのような構造体を作製するために酸化チタンのリソグラフィー技術を確立し、３）実際に構造体を作製し１の計算の正しかったことを実験的に確認した、ことである。
【研究代表者】
【研究分担者】 |
| 松谷 晃宏 | 東京工業大学 | 技術部 | 技術職員 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(C)
【研究期間】2013-04-01 - 2017-03-31
【配分額】5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)