全方位ナノ修正加工を実現する空間光場姿勢制御フォトン励起型マイクロ加工工具の開発
【研究分野】生産工学・加工学
【研究キーワード】
超精密加工 / ナノ修正加工 / ソフトマテリアル / マイクロマシン / マイクロ・ナノデバイス / 精密微細加工
【研究成果の概要】
ナノ生産工学においてその重要度が高まっているレジスト，高分子，バイオ素材等のソフトマテリアルを加工対象として，50nm以下の空間加工分解能でナノ修正加工が可能な新しい概念の光触媒ナノ粒子工具チップ・マイクロ加工工具の提案およびその有効性検証を目的とした．まず，理論的側面から光放射圧に基づいた提案全方位工具基本構成を決定した．次に検証実験システムを開発し，提案概念を実現する上で最も重要となる，面内加工分解能がレーザー照射スポットサイズではなく，光放射圧により把持された光触媒ナノ粒子径で決定されること，さらに深さ方向に関しては10nm以下の加工分解能での除去加工が実現できることを実証した．
【研究代表者】
【研究分担者】 |
| 高増 潔 | 東京大学 | 大学院工学系研究科 | 教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(A)
【研究期間】2011-04-01 - 2015-03-31
【配分額】43,290千円 (直接経費: 33,300千円、間接経費: 9,990千円)