【研究分野】薄膜・表面界面物性

【研究領域課題番号】23560021 (KAKENデータベースで見る）

【研究キーワード】

薄膜 / 表面構造 / 低速電子回折法 / 低速電子顕微鏡法 / 動力学的解析 / 鉄シリサイド / 低速電子顕微鏡

【研究成果の概要】

高い空間分解能を有する低速電子顕微鏡を用いてシリコン(111)表面上の鉄シリサイドナノアイランド島成長初期過程を研究した．島の成長過程をリアルタイムで観察し，成長の主要段階において，異なる構造を持つ島について，低速電子回折強度の入射電子エネルギー依存性を測定し，表面構造解析をおこなった．
市販の装置には制限があるものの，実用的な空間分解能は，制限視野法で1 μm，顕微鏡像からの強度抽出の場合で 50 nm程度であった，0から100 eVの入射電子エネルギー範囲で，0次に加えて1/2次の回折点を利用し，通常のLEEDでは不可能な微小領域の構造解析が可能であった．

【研究種目】基盤研究(C)

【研究期間】2011 - 2013

【配分額】5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)