外場摂動印加時の磁気分光を用いた軌道磁気モーメントの操作に関する研究
【研究分野】薄膜・表面界面物性
【研究キーワード】
電子分光 / 磁気分光 / 軌道磁気モーメント / 界面 / X線磁気円二色性 / 外場摂動 / スピンオービトロニクス / 磁気円二色性 / スピントロニクス
【研究成果の概要】
薄膜界面における空間対称性の破れによる軌道磁気モーメントの増大を精密観測し、操作することを目的として研究を展開してきた。このために内殻励起磁気分光測定装置を改造し、スピンと軌道磁気モーメントの計測を進めた。これにより、CoとPdの界面での垂直磁気異方性の起源を明確にし、非磁性体Cuに誘起される垂直磁化の精密測定に成功した。さらに、電圧を印加した状態での磁気分光法を開発し、Niにおいて格子ひずみによる磁気異方性の変化と軌道磁気モーメントの変調を捉えることに成功した。これらの成果は、軌道磁気モーメントを操作する新しい研究分野「スピンオービトロニクス」の展開に道を拓くことになる。
【研究代表者】
【研究種目】基盤研究(B)
【研究期間】2015-04-01 - 2018-03-31
【配分額】17,550千円 (直接経費: 13,500千円、間接経費: 4,050千円)