【研究分野】ナノ構造物理

【研究領域課題番号】26246002 (KAKENデータベースで見る）

【研究キーワード】

ナノ材料 / 二次元材料 / シリセン / 薄膜 / 走査プローブ顕微鏡 / 放射光実験 / 角度分解光電子分光 / 表面・界面物性

【研究成果の概要】

基板との相互作用の小さいシリセンを形成すること，また，シリセンの性質を保持した上でその酸化を防止する保護膜を形成することを目的として，二ホウ化ジルコニウム薄膜上シリセンにケイ素，ゲルマニウム，酸化物，窒化物などを蒸着し，シリセンと基板の間の相互作用，シリセンと蒸着物の間の相互作用の性質を明らかにするために，放射光施設における光電子分光を行い，多くの知見を得た．二ホウ化ジルコニウム薄膜上単原子層六方晶窒化ホウ素にケイ素を蒸着し，シリセンの形成を試みた結果，シリセンが窒化ホウ素の下に形成され，窒化ホウ素がシリセンの性質を変えずに酸化防止膜として機能することが実験的に明らかとなった．

【研究種目】基盤研究(A)

【研究期間】2014-04-01 - 2018-03-31

【配分額】40,820千円 (直接経費: 31,400千円、間接経費: 9,420千円)