負イオン源における負イオン引き出し機構・負イオンビーム光学特性の解明
【研究分野】プラズマ科学
【研究キーワード】
プラズマ / 核融合 / 負イオン源 / 加速器 / シミュレーション / イオンビーム光学 / PIC法
【研究成果の概要】
本研究では、３次元PIC数値計算コードとモンテカルロ計算との結合による３次元PIC-MCC結合コードを構築し、負イオン引き出しの物理機構と負イオンビームの光学的特性、特にビーム発散角の大きな成分であるビームハロの発生要因の解明を行った。その結果、負イオン引出し面の端部から引き出された負イオンは、負イオン引出し面の端部の電界レンズ効果は強いため、引出部で負イオンビームが過収束してビームハロになることを明らかにした。
【研究代表者】
【研究連携者】 |
| 畑山 明聖 | 慶応義塾大学 | 理工学部 | 教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(C)
【研究期間】2014-04-01 - 2017-03-31
【配分額】3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)