グラフェンにおけるトポロジーと電子相関の理論的研究
【研究分野】物性Ⅰ
【研究キーワード】
グラフェン / シリセン / トポロジカル絶縁体 / スキルミオン / 量子スピンホール効果 / チャーン数 / メロン / 量子異常ホール効果 / トポロジー / 電子相関 / グラフェン・ナノリボン / 場の理論 / トポロジカル相転移 / スカーミオン / バイメロン / ナノグラフェン / グラフェン・ナノディスク / ディラック電子 / 量子ドット / スピン軌道相互作用 / 渦度
【研究成果の概要】
グラフェン及び関連物質であるシリセンの電子物性とトポロジカルな性質について研究を行った。特に様々なトポロジカル絶縁体とトポロジカル相転移について研究を行った。三角グラフェンの波動関数を厳密に求めた。グラフェン・ナノディスク・アレイが平坦バンドを持つ事を示した。シリセンの構造が座屈している事により、垂直電場でバンドギャップを制御出来る事を示した。シリセンに強磁性体を貼り付ける事で量子異常ホール効果を示す事を予言した。また、光照射でトポロジカル相転移を起こし、臨界点で単一ディラック・コーン状態が出現する事を予言した。また、磁性体中のトポロジカル構造であるスキルミオンについても研究を行った。
【研究代表者】
【研究種目】若手研究(B)
【研究期間】2010-04-01 - 2014-03-31
【配分額】3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)