「グラフェン」に関するサイレントキーワード「ホウ素」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】次世代超高速デバイス実現に向けた新規ディラック原子層材料の開発
【研究代表者】松田 巌  東京大学   物性研究所   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000343103/	 
【研究分担者】
近藤 剛弘  筑波大学  数理物質系  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070373305/	
冨中 悟史  国立研究開発法人物質・材料研究機構  国際ナノアーキテクトニクス研究拠点  主任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090468869/	

【研究名】二配位ホウ素カチオンによる超ルイス酸分子化学
【研究代表者】庄子 良晃  東京工業大学   科学技術創成研究院   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040525573/	
【研究協力者】
福島 孝典  
田中 直樹  
橋爪 大輔