「ドーピング」に関するサイレントキーワード「半導体」が含まれる科研費採択研究4件

【研究名】独自の化学設計指針に基づいた革新的新光機能性半導体の創製とデバイス化への展開
【研究代表者】平松 秀典  東京工業大学   科学技術創成研究院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/	 
【研究分担者】
飯村 壮史  国立研究開発法人物質・材料研究機構  機能性材料研究拠点  主任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080717934/	

【研究名】ワイドギャップ半導体におけるケミカルドーピングの学理構築と新材料開拓
【研究代表者】大場 史康  東京工業大学   科学技術創成研究院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090378795/	 
【研究分担者】
野瀬 嘉太郎  京都大学  工学研究科  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000375106/	
高橋 亮  東京工業大学  科学技術創成研究院  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080822311/	

【研究名】窒化アルミニウム系超高耐圧半導体素子作製のための基盤技術開発
【研究代表者】上野 耕平  東京大学   生産技術研究所   助教 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090741223/	
【研究名】セラミック薄膜における相化学的特異現象の解明とその誘起物性への応用
【研究代表者】水谷 惟恭  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016558/	 
【研究分担者】
篠崎 和夫  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000196388/	
脇谷 尚樹  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040251623/	
木口 賢紀  東京工業大学  総合分析支援センター  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070311660/