「薄膜」に関するサイレントキーワード「半導体物性」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】アモルファスエレクトライドの領域開拓
【研究代表者】細野 秀雄  東京工業大学   科学技術創成研究院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030157028/	 
【研究分担者】
松石 聡  東京工業大学  元素戦略研究センター  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030452006/	
飯村 壮史  東京工業大学  科学技術創成研究院  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080717934/	
金 正煥  東京工業大学  元素戦略研究センター  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090780586/	

【研究名】ガラス基板上に配向を有するIGZO薄膜の形成メカニズムの解明
【研究代表者】重里 有三  青山学院大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090270909/	 
【研究分担者】
岡島 敏浩  公益財団法人佐賀県地域産業支援センター九州シンクロトロン光研究センター  ビームライングループ  主任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020450950/	
賈 軍軍  青山学院大学  理工学部  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080646737/