「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「強磁性体」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】スピン制御による半導体超構造の新展開
【研究代表者】大野 英男  東北大学   電気通信研究所   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000152215/	 
【研究分担者】
宗方 比呂夫  東京工業大学  像情報工学研究施設  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060270922/	
獄山 正二郎  姫路工業大学  理学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020163446/	
家 泰弘  東京大学  物性研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030125984/	
吉田 博  大阪大学  産業科学研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030133929/	
吉野 淳二  東京工業大学  理学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090158486/	

【研究名】半導体基板上におけるエピタキャシャル強磁性体超薄膜の形成とその応用
【研究代表者】田中 雅明  東京大学   大学院・工学系研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030192636/	 
【研究分担者】
広野 滋  日本電信電話会社  境界領域研究所  主任研究員
GERHARD Faso (ファーソル ゲルハルト)  ユーロテクノロジー  主任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010251472/	
西永 頌  東京大学  大学院・工学系研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010023128/	
FASOL Gerhart  Eurotechnology Corporation, Principal Reaearcher
EASOL Gerhar  ユーロテクノロジー  主任研究員 

【研究名】スピン制御による半導体超構造の新展開
【研究代表者】大野 英男  東北大学   電気通信研究所   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000152215/	 
【研究分担者】
宗方 比呂夫  東京工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060270922/	
嶽山 正二郎 (獄山 正二郎)  姫路工業大学  理学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020163446/	
家 泰弘  東京大学  物性研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030125984/	
吉田 博  大阪大学  産業科学研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030133929/	
吉野 淳二  東京工業大学  理学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090158486/