「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「パルスレーザー堆積法」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】パルスレーザー堆積法によるZrCuSiAs型化合物エピタキシャル薄膜の超伝導発現
【研究代表者】平松 秀典  東京工業大学   応用セラミックス研究所   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/	
【研究名】鉄系超伝導体の高品質薄膜成長機構の解明と高性能化技術の創製
【研究代表者】平松 秀典  東京工業大学   科学技術創成研究院   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/	
【研究名】酸化亜鉛の価電子制御とp-n接合発光素子の作製
【研究代表者】川崎 雅司  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090211862/