「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「有機金属気相成長法(MOCVD)」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】分極制御による可視光応答・高耐久性窒化物半導体人工光合成デバイス
【研究代表者】杉山 正和  東京大学   先端科学技術研究センター   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090323534/	 
【研究分担者】
藤井 克司  北九州市立大学  付置研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080444016/	

【研究名】超高効率を有する薄膜多重量子井戸太陽電池の研究開発
【研究代表者】渡辺 健太郎  東京大学   先端科学技術研究センター   特任講師 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030523815/	
【研究名】類似多形をもつ複酸化物セラミックスの特定結晶形薄膜の生成
【研究代表者】水谷 惟恭  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016558/	 
【研究分担者】
脇谷 尚樹  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040251623/