「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「ZnO」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】フェリ磁性体/強誘電体エピタキシャル多層膜の作製と光導波デバイスへの応用
【研究代表者】直江 正彦  東京工業大学   工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040016465/	 
【研究分担者】
松下 伸広  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090229469/	
中川 茂樹  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060180246/