「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「ヘテロエピタキシー」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】ハロゲン化金属ペロブスカイト半導体を用いた発光デバイスの研究
【研究代表者】近藤 高志  東京大学   先端科学技術研究センター   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060205557/	
【研究連携者】     
宮坂 力  桐蔭横浜大学  医用工学部  特任教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000350687/	
江馬 一弘  上智大学  理工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040194021/	
【研究協力者】
中村 唯我  
佐野 惇郎  
木村 浩平  
高島 駿   

【研究名】弗化物/酸化物ハイブリッド単結晶ヘテロナノ構造の創製とフォトニクス素子への応用
【研究代表者】渡辺 正裕  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000251637/	
【研究名】半導体基板上におけるエピタキャシャル強磁性体超薄膜の形成とその応用
【研究代表者】田中 雅明  東京大学   大学院・工学系研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030192636/	 
【研究分担者】
広野 滋  日本電信電話会社  境界領域研究所  主任研究員
GERHARD Faso (ファーソル ゲルハルト)  ユーロテクノロジー  主任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010251472/	
西永 頌  東京大学  大学院・工学系研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010023128/	
FASOL Gerhart  Eurotechnology Corporation, Principal Reaearcher
EASOL Gerhar  ユーロテクノロジー  主任研究員