「薄膜」に関するサイレントキーワード「化学アニーリング」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】アモルファス・シリコン薄膜における低ノイズ・アバランシェ増幅機能の発現
【研究代表者】清水 勇  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040016522/	 
【研究分担者】
神谷 利夫  東京工業大学  応用セラミックス研究所  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080233956/	
フォートマン チャールズ  東京工業大学  大学院・総合理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070293066/