「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「鉄系超伝導体」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】パルスレーザー堆積法によるZrCuSiAs型化合物エピタキシャル薄膜の超伝導発現
【研究代表者】平松 秀典  東京工業大学   応用セラミックス研究所   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/